檢索結果:共3筆資料 檢索策略: "Shyankay Jou".eadvisor (精準) and ckeyword.raw="共濺鍍"
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本論文以濺鍍及共濺鍍沉積的方式製作Cu/Cu-SiO2/TaN,TaN/Cu-SiO2/TaN三層結構,經由電性量測結果可知上述兩種元件皆有電阻切換的性質。電極材料皆為TaN的元件在連續操作100次…
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本篇論文研究以Al作為上下電極,使用ZrO2以及NiO作為主要之中間層,製備 電阻式記憶體元件,並透過調節ZrO2與NiO之比例以及鍍膜時氧氣之通量來改善元 件之性質。 當元件之介電層使用ZrO2時…
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本論文研究以Cu-CeO2-YSZ與Ni-CeO2-YSZ兩種不同材料系統作為固態氧化物燃料電池的陽極材料,分別利用磁控式共濺鍍系統製備CuO-CeO2-YSZ薄膜與NiO-CeO2-YSZ薄膜,再…